SILAYO PEALD 光學涂層原子層沉積系統

SILAYO PEALD 光學涂層原子層沉積系統擴展了 SENTECH ALD 和 PEALD 產品組合，適用于 330 毫米基底和三維基底的沉積。為了確保層厚的均勻性和一致性，PEALD用于沉積光學薄膜，如防反射涂層或光學濾光系統。SILAYO PEALD 光學涂層原子層沉積系統利用SENTECH平面三螺旋天線（PTSA）感應耦合等離子體（ICP）源的優勢進行PEALD處理。

主要特點與優勢                                           

PEALD最佳薄膜均勻性<1%

SENTECH SILAYO等離子體增強原子層沉積（PEALD）系統設計用于大型三維物體及批量小型基底上的共形和均質光學涂層。SENTECH專有的平面三螺旋天線（PTSA）為均勻光學涂層提供均勻等離子體。                       

樣品直徑可達330毫米，高度可達100毫米                    

SENTECH SILAYO PEALD 系統實現均勻涂層，樣品直徑可達330毫米，垂直尺寸可達100毫米。

利用射頻偏置進行應力控制

可選的射頻偏置基板電極允許修改層的性質（如應力和折射率）。