SI PEALD等離子體增強原子層沉積系統

SI PEALD等離子體增強原子層沉積系統能夠在低溫下均勻且貼合地涂層敏感基底和層。樣品表面提供高通量的反應性氣體，無需紫外線或離子轟擊。

SI PEALD等離子體增強原子層沉積系統主要特點與優勢

PEALD用于敏感基底

SENTECH SI PEALD系統采用真正的遠程等離子源，能夠在低溫<100°C下均勻且貼合地覆蓋敏感基底和層層。 樣品表面提供高通量的活性氣體，無需紫外線或離子轟擊。

原子層沉積（ALD）用于精確、共形和均勻沉積

ALD沉積技術的特點是能夠在原子層面精確控制厚度，沉積出共形和均勻薄膜，并且在半導體器件如高介電材料沉積中持續發揮重要作用。ALD的主要應用包括傳感器、光電子學和二維材料。

工藝開發與優化的原位診斷

AL實時監測儀的原位診斷實現了單次ALD循環的超高分辨率。其優勢包括確認ALD制度、縮短處理時間以及整體擁有成本。光譜橢偏儀也作為原位診斷技術提供，對我們的原子層沉積系統具有特殊優勢。

輕松清理反應堆

定期清洗反應堆對于穩定且可重復的原子層沉積處理至關重要。通過提升裝置，反應堆室可以輕松打開，用于清潔我們的原子層沉積系統。

集群積分

原子層沉積系統作為SENTECH集群工具的模塊提供。我們的原子層沉積系統可與SENTECH的PECVD和蝕刻系統結合，應用于工業應用。集群工具可選支持磁帶到磁帶加載。

手套箱系統集成

SENTECH ALD系統兼容多家供應商的手套箱。