Beneq C2R ALD空間原子層沉積系統

1.產品概述：

Beneq C2R ALD空間原子層沉積系統將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產。由于采用等離子體增強旋轉原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。

2.產品配置:

Beneq C2R ALD空間原子層沉積系統具有基于 Brooks Automation 值得信賴的 MX400 傳輸模塊的自動化選項。

自動化服務包括：                 

Brooks MX400 基于集群的模塊                

雙臂掃地機器人                    

樣品對準器                               

可選預熱和冷卻                      

3.產品優勢：                                

超高沉積速率，高達每小時幾微米

批量 PEALD 工藝，適用于多達 7 個 200 mm 晶圓             

適用于厚度達 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板          

膜厚均勻性高，適用于要求苛刻的光學鍍膜應用

可配備負載鎖或晶圓自動化