FlexAL ALD原子層沉積系統

FlexAL ALD原子層沉積系統可提供遠程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結構和器件的工程設計提供了一系列新的靈活性和可行性。

在同一設備中可靈活使用遠程等離子體與熱ALD

集群式配置保證始終于真空下傳送襯底

盒式對盒式操作可提高產能以適于量產

對材料和氣體/液體源的選擇具有更大的靈活性

等離子體ALD可進行低溫工藝                

使用遠程等離子體以確保低損傷                

通過配方驅動的軟件界面實現可控的和可重復的工藝

可處理高達200mm的晶圓                         

FlexAL ALD原子層沉積系統特征：

氣體/液體源前驅體模式上 - 一體化手套箱 —— 實時轉換                               

一體化端口 - 允許添加實時橢偏儀測量工具

集群式配置 - 始終于真空下傳送襯底

盒式對盒式操作 - 可提高產能以適于量產                             

機器手臂與片盒式 - 可處理100mm，150mm或200mm晶圓（無需額外設備進行晶圓交換）

所有系統都可以放置于超凈間內或嵌入墻體 - 易于放置        

自動化的200mm晶圓真空傳送 - 工藝靈活性