DMD無掩膜光刻機

其獨特的光路結構和高精度直線電機位移臺確保了曝光精度和重復定位能力，同時配備CCD相機逐場自動對焦系統，進一步優化了成像質量和工藝穩定性。設備支持電動物鏡切換和激光主動對焦功能，能夠靈活應對不同應用場景的需求。其緊湊的桌面小型化設計不僅節省空間，還便于在實驗室或生產環境中部署。此外，配備了直觀易用的軟件界面，大幅降低了操作門檻，即使是初學者也能快速上手。無論是超材料結構、電極圖案還是微流控芯片等復雜微納結構的制備，都能提供可靠的支持，是科研工作者和工業用戶的理想選擇。

• 技術特點

▲ 桌面小型化

▲ 高功率、高均勻度LED刻寫光源

▲ 綠光引導曝光，所見即所得

▲ CCD相機逐場圖像自動對焦

▲ 高精度直線電機位移臺

▲ 用戶友好，易于操作的軟件界面

• 光路原理結構圖

• 應用案例

▲ 微流控芯片

▲ DMD紫外光刻實現套刻功能

▲ 碲納米網格刻蝕后套刻電極

▲ 灰度光刻菲涅爾透鏡【3D灰度光刻實現菲涅爾透鏡，從掃面電鏡的截面圖中可以看出臺階連續變化】

▲ 二維材料電極【蒸鍍并剝離后的二維材料電極，蒸鍍電極為Ti/Au/Ti(總共12nm)】

▲ DMD紫外光與電子束聯合光刻【使用的機型為ZML10A 和 ZEL304G】