目錄:華兆科技（廣州）有限公司>>半導體設備>>物理氣相沉積設備PVD>> PVD-BATCH DRUM SERIES物理氣相沉積系統
PVD-BATCH DRUM SERIES物理氣相沉積系統由兩種標準尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。當顆粒物是一個主要問題時，水平配置優先。水平和垂直配置均可用于 3D 涂層的雙軸旋轉。PVD-BATCH DRUM SERIES物理氣相沉積系統通過每次運行的沉積面積來衡量的吞吐量范圍從幾百平方英寸到超過 2000 平方英寸，并且還提供更大的定制系統。
PVD 200 鼓式涂層機
PVD 500鼓式涂層機
水平或垂直
水平或垂直
沉積面積
最多300平方英寸（整體滾筒=9英寸外徑 x 15英寸LG）
沉積面積
最多1,440平方英寸（整體鼓筒=30.5英寸外徑 x ≈21英寸LG）
供暖、制冷、偏置、可拆卸面板
三維組件的單軸與雙軸旋轉
離子刻蝕選項
供暖、制冷、偏置、可拆卸面板
三維組件的單軸與雙軸旋轉
離子刻蝕選項
最多可選擇（4）面，用于線性陰極或線性離子源
最多可選擇（7）面，用于線性陰極或線性離子源
直流、PDC、射頻、中頻和HIPPIMS電源
直流、PDC、射頻、中頻和HIPPIMS電源
通過可折疊/鉸鏈門輕松訪問濺射源
通過可折疊/鉸鏈門輕松訪問濺射源
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