低壓化學氣相沉積系統(tǒng)LPCVD 簡介：1. 滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求2. 直徑200毫米的石英室3. 內部石英管的設計便于拆卸和清洗4. 基...

TFS 500 是薄膜鍍膜應用的理想選擇。作為第一個 Beneq 反應器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多...

Beneq P800 專門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用...

Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學術研究和企業(yè)研發(fā)而設計。Beneq TFS 200 經過專門設計，可最大限度地減少多用戶...

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE?是我們但極其靈活的原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)，專為入門級到中級用戶而設計。該AL...