日本電子JEOL場發射透射電鏡F200 返回列表頁

日本電子JEOL場發射透射電鏡F200詳細說明：

日本電子JEOL場發射透射電鏡F200JEM-F200的外觀和操作模式基于“智能化”的理念進行了全新的設計。全新的人機界面使得用戶可以專注于電鏡觀察和分析工作。得益于日本電子在電子光學領域多年的積累，新設備采用了球差電鏡的高穩定度的設計理念，該設備的機械穩定度和電氣穩定度得以大大改善，從而可以保證更加出色的性能。

JEM-F200 配置肖特基場發射電子槍，或者冷場發射電子槍*，高亮度和高穩定性的場發射電子槍可以極大提高觀察和分析效率。

對于冷場電子槍，可以獲得更高亮度和更小能量發散度的電子源，亮度高于8x108A/cm2·sr，能量發散度可以低至0.3eV，在圖像質量和分析效果上更勝yichou，更適合行高能量分辨率的EELS分析，可以對樣品進行精細的化學結合態分析。

JEM-F200上引入了全新的四級聚光鏡設計，可以滿足日益增加的各種應用。在這個全新系統的支持下，前兩級聚光鏡可以控制束斑尺寸和束流強度，其形成的電子東交叉點可以固定在特定的位置，然后通過后兩級聚光鏡實現照明區域和匯聚角度的控制。除此外，在TEM模式成像中非常重要的平行光照明模式可以像傳統電鏡一樣輕松實現。該系統的使用可以輕松得到高質量的明場和暗場圖像。