鍍膜：磁控濺射系統Discovery ® 635/785 返回列表頁

DENTON 磁控濺射系統Discovery ® 635/785

美國丹頓真空設備有限公司是世界真空鍍膜設備制造商，成立于1964年。丹頓是美國簽約的設備供應商，為美國品研發和制造提供真空鍍膜設備。作為美國老牌“軍工”企業，丹頓真空以設備的實用性和可靠性見長。目前，丹頓真空已為客戶設計制造了總數超過5千臺的各種規格的電阻/電子束蒸發、磁控濺射、離子束濺射/刻蝕和等離子體化學氣相沉積鍍膜系統，產品廣泛應用于科研開發、小規模制造和工業生產等領域。

丹頓真空的Discovery系列在世界許多有名的研究機構得到廣泛的應用，是業內*的靈活、可靠的磁控濺射系統。從15年前開發以來，該系統已經銷售超過100臺，在國內銷售12臺。Discovery®系列適合于研發及小批量生產。系統采用*的共焦濺射結構，能夠使用較小的磁控濺射靶槍在較大的面積的工件上得到較好的均勻性（例如：采用傳統的垂直濺射方式，為了在6英寸工件上得到±5%的均勻性，需要使用8英寸直徑靶槍，而采用共焦濺射方式，則可以采用3英寸磁控濺射靶槍，即可達到同樣的均勻性指標）。因此在同樣的要求下，采用的靶槍及電源相對較小，所以能夠降低設備成本及運行成本，同時，丹頓真空也提供傳統的垂直濺射方式系統。

Discovery® 系列都可以安裝多個磁控濺射靶槍，可以實現多種濺射模式，包括直流/射頻/脈沖濺射，共濺射，射頻偏壓濺射；可以實現三級加熱，高加熱溫度可以達到900 °C；可以配置進樣室（單片或多片），大可以處理的工件直徑可以達到 300mm ；系統真空室規格從18英寸（457mm）到 35英寸（890mm）可選；高真空采用分子泵或低溫泵獲得；可以采用PLC觸摸屏控制系統或計算機控制系統。