CIF-Spin Processor

Spin Processor旋涂勻膠機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)

v 采用閉環(huán)控制伺服電機(jī)，數(shù)字式增速信號(hào)反饋，速勻準(zhǔn)確，壽命長(zhǎng)，保證勻膠的均一性。

v 5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標(biāo)配10個(gè)勻膠梯度階段（速度和時(shí)間梯度設(shè)置），可選配10個(gè)可編程程序，每個(gè)程序下可設(shè)置10個(gè)勻膠梯度階段，z多100個(gè)階段。

v 內(nèi)置水平校準(zhǔn)裝置，大限度的保證旋涂均勻，可對(duì)大小不同規(guī)格的基片進(jìn)行旋涂。

v 多重安全保護(hù):

» 電磁安全開(kāi)關(guān)，蓋子打開(kāi)卡盤停止，保證安全；

» 蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開(kāi)傷人；

» 雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，大限度保證實(shí)驗(yàn)人員安全。

v 樣品托盤卡口和樣品托盤之間三重密封安全保護(hù)，有效降低電機(jī)進(jìn)膠的風(fēng)險(xiǎn)。

v 一機(jī)兩用，根據(jù)不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂方式。

v 符合人體功能學(xué)的水平取放樣品旋涂托盤設(shè)計(jì)，取放樣品更方便。

v 不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，旋涂腔體采用PTFE材料。旋涂托盤采用聚丙烯（NPP-H）材料，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運(yùn)行。

v 上下雙腔體設(shè)計(jì)，較大的上腔體便于擦拭去除膠液，錐形下腔體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)便于收集膠液，并帶廢膠收集裝置

v 可選氮?dú)獯蹈伞⒌獨(dú)獗Ｗo(hù)，自動(dòng)滴膠或簡(jiǎn)易滴膠裝置，提供更多的操作便利性。

v 適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。

　　勻膠機(jī)是一種常見(jiàn)用于材料薄膜制備工藝的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，它的原理相對(duì)比較簡(jiǎn)單，利用電機(jī)高速旋轉(zhuǎn)時(shí)所產(chǎn)生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面，顧名思義，一種可以“讓膠液均勻涂敷的機(jī)器”。勻膠機(jī)有很多稱謂，勻膠臺(tái)，旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)，旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)或者旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)等等，它的英文是Spin Processor：旋轉(zhuǎn)涂膜的意思。

　　勻膠過(guò)程中基片的加速度也會(huì)對(duì)膠膜的性能產(chǎn)生影響。因?yàn)樵诨D(zhuǎn)的階段，光刻膠就開(kāi)始干燥（溶劑揮發(fā)）了。所以準(zhǔn)確控制加速度很重要。在一些勻膠過(guò)程中，光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過(guò)程開(kāi)始的幾秒鐘內(nèi)揮發(fā)掉了。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠，加速度對(duì)膠膜質(zhì)量同樣起重要作用。在許多情況下，基片上已經(jīng)由前面工序留下來(lái)的精細(xì)圖形。因此，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過(guò)程總是對(duì)光刻膠產(chǎn)生離心力，而恰恰是加速度對(duì)光刻膠產(chǎn)生扭力（twisting force）,這個(gè)扭力使光刻膠在已有圖形的周圍散開(kāi)，這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。

Spin Processor旋涂勻膠機(jī)技術(shù)參數(shù)