某藥企API納米化：一韋NM600實現精準粒度控制與低溫研磨

近期，某藥企研發團隊來到我司上海應用實驗室，使用NM600濕法納米研磨儀對其API樣品進行納米化處理測試。通過多組參數驗證，研磨后樣品經檢測，Z-均粒徑為479.46 nm，多分散指數（PDI）為0.201，粒度分布滿足客戶在藥物研發中的預期要求。客戶對實驗過程及結果表示認可，并就后續合作事宜展開進一步溝通。本次測試中，一韋儀器濕法納米研磨儀NM600體現出以下幾方面特點：粒度控制穩定：Z-均粒徑與PDI值結果均顯示設備在納米級研磨中具備良好的粒度控制能力。重復性較好：多次平行實驗數據一致性較高，反映設備程序控制較為穩定。溫控效果良好：設備配備壓縮機制冷系統，可在研磨過程中保持腔體低溫，適用于溫度敏感樣品的處理。