VTC-600GC-AM連續式多腔室磁控濺射鍍膜系統

產品簡介

VTC-600GC-AM連續式多腔室磁控濺射鍍膜系統是新自主研制開發的鍍膜設備，主要由傳遞室和濺射鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實現往復運動，由調頻電機控制，自動同步運行，且往復位置和運動速度均可以設定，兩室內均有定位功能，可實現原點復位。可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GC-AM連續式多腔室磁控濺射鍍膜系統可選配多個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。

主要特點

• 由傳遞室和濺射鍍膜室兩大部分組成，可實現快速連續的進樣濺射鍍膜。

• 可選配多個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據客戶需要任意調換）。

• 可制備多種薄膜，應用廣泛。

• 體積小，操作簡便。

• 整機模塊化設計，傳遞室、真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計，可根據用戶實際需要調整。

• 可根據用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。

技術參數