亚洲欧美日韩精品,日本一区二区在线免费观看,全部无卡免费的毛片在线看,狠狠操av,成人国内精品久久久久影院,夜夜干夜夜,中文字幕人妻丝袜乱一区三区,国产ts在线视频专区

    您好, 歡迎來到化工儀器網

    | 注冊| 產品展廳| 收藏該商鋪

    15640436639

    products

    目錄:沈陽科晶自動化設備有限公司>>真空鍍膜機>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
    • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
    • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
    參考價 面議
    具體成交價以合同協議為準
    參考價 面議
    具體成交價以合同協議為準
    • 品牌 其他品牌
    • 型號
    • 廠商性質 生產商
    • 所在地 沈陽市
    屬性

    $NV_PropertyInfoName.SubString(0,25)

    >

    更新時間:2026-01-22 12:49:46瀏覽次數:3371評價

    聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!

    同類優質產品

    更多產品
    產地類別 國產 價格區間 面議
    應用領域 地礦
    VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣
    產品簡介VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源,一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。

    主要特點VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
    • 配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。

    • 可制備多種薄膜,應用廣泛。

    • 體積小,操作簡便。

    技術參數VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    產品名稱

    VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    產品型號

    VTC-600-2HD

    安裝條件

    1、工作臺需要:尺寸 L1300mm×W750mm×H700mm,承重 200kg 以上。

    2、水:需求:隨機標配 KJ-5000 自循環冷水機(加注純凈水或者去離子水)。

    3、氣:需氬氣(純度≥99.99%),自備氬氣瓶(自帶?6mm 雙卡套接頭)及減壓閥。

    4、通風裝置:使用現場需通風(必要時可自行加裝換氣裝置)。

    5、供電源:單相:AC220V 50Hz 國標 10A 插座,必須有良好接地,前端需加裝 16A 空氣開關。

    6、現場環境:要求:溫度 25℃±15℃,濕度 55%Rh±10%Rh 以下,干燥無塵,無易燃易爆氣體。

    主要參數

    真空室尺寸

    φ295×高265mm

    備注說明

    真空泵組

    分子泵:Hipace80 渦輪泵

    前級泵:MVP015-2DC 隔膜泵

    浦發(Pfeiffer)

    本底真空度

    5.0E-3Pa(5.0E-5hPa)

    沉積前基礎真空要求

    極限真空度

    5.0E-4Pa(5.0E-6hPa)

    受現場環境等因素影響

    工作壓力

    0.1~5Pa(0.001~0.05hPa)

    氬氣為主,反應氣體比例添加

    抽速

    前級泵:1m3/h

    分子泵:67l/s

    影響抽真空時間

    濺射電源

    類型/數量

    DC(直流):1臺

    RF(射頻):1臺

    DC:金屬靶 RF:絕緣靶

    (搭配電源類型可選配)

    輸出功率

    范圍

    DC:0~500W

    RF:0~300W

    功率輸出模式

    MAX輸出功率

    匹配阻抗

    50Ω

    確保功率傳輸效率

    工作氣體

    標配:氬氣(Ar)

    建議使用:Ar 純度 99.999%

    氬氣流量

    (2路輸入)

    1路:1~100sccm

    1路:1~200sccm

    注:如需要通入其它類型保

    護氣體可定制

    流量計精度

    ±1%F.S.

    /

    樣品臺尺寸

    Φ132mm

    ≈5.2英寸

    樣品臺轉速

    1~20rpm

    提升膜厚均勻性

    加熱溫度

    RT~500℃

    樣品臺表面溫度值

    控溫精度

    ±1℃

    /

    磁控靶數量

    2個

    可獨立、可同時使用

    靶材尺寸

    φ2寸 厚度0.1-5mm

    靶材材質不同厚度有所不同

    靶基距

    85~115mm可調

    當距離↑增大、→厚膜均勻

    性↑增高,沉積速率↓下降。

    冷卻方式

    水冷

    冷卻水循環靶頭降溫

    厚膜均勻性

    ±5%(φ100mm基片)

    靶基距和轉速優化關鍵

    極限膜厚

    10nm~10um

    過厚易應力開裂

    輸入功率

    MAX:主機 1.5KW/射頻電源 1.1KW/直流電源0.75KW

    注:主機、射頻電源、直流電

    源及膜厚儀均為獨立供電!

    輸入電源

    單相:AC220V 50/60Hz

    主機尺寸

    600mm×750mm×900mm

    注:開蓋高度為1050mm

    整機尺寸

    1300m×750mm×900mm

    注:開蓋高度為1050mm

    整機重量

    160kg

    注:不含水冷機組

    標準配件VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
    序號名稱數量圖片鏈接
    1直流電源控制系統1套-
    2射頻電源控制系統1套-
    3膜厚監測儀系統1套-
    4分子泵(德國進口或者國產更大抽速)1臺-
    5冷水機1臺-
    6聚酯PU管(?6mm)4m-
    可選配件VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
    序號名稱功能類別圖片鏈接
    1金、銦、銀、鉑等各種靶材(可選)VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀-
    2可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜(可選)-
    3雙層旋轉鍍膜夾具(可選)VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀





    會員登錄

    請輸入賬號

    請輸入密碼

    =

    請輸驗證碼

    收藏該商鋪

    標簽:
    保存成功

    (空格分隔,最多3個,單個標簽最多10個字符)

    常用:

    提示

    您的留言已提交成功!我們將在第一時間回復您~
    在線留言

    會員登錄

    請輸入賬號

    請輸入密碼

    =

    請輸驗證碼

    收藏該商鋪

    該信息已收藏!
    標簽:
    保存成功

    (空格分隔,最多3個,單個標簽最多10個字符)

    常用:
    熱線電話 在線詢價