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詳細介紹
NS3500H 大面積高速三維掃描系統
NS-3500H 是一種準確、可靠的三維(3D)掃描系統，通過快速光學掃描模塊和信號處理算法實現實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結構，如半導體晶片，FPD產品，MEMS設備，玻璃基板，材料表面等方面擁有*的解決方案。
Features & Benefits（性能及優勢）：
高分辨無損傷光學3D測量 自動傾斜補償
實時共焦成像 簡單的數據分析模式
多種光學變焦 雙Z掃描
大范圍拼接 半透明基材的特征檢測
實時CCD明場和共聚焦成像 無樣品準備
自動聚焦
Application field（應用領域）：
NS-3500是測量低維材料的有前途的解決方案。
可測量微米和亞微米結構的高度，寬度，角度，面積和體積，例如
-半導體:IC圖形，凹凸高度，線圈高度，缺陷檢測，CMP工藝
- FPD產品:觸摸屏屏幕檢測，ITO圖案，LCD柱間距高度
- MEMS器件:結構三維輪廓，表面粗糙度，MEMS圖形
-玻璃表面:薄膜太陽能電池，太陽能電池紋理，激光圖案
-材料研究:模具表面檢測，粗糙度，裂紋分析
Dimension(尺寸）:
Specification(規格）：
Model | Microscope NS-3500 | 備注 | |||||
Controller NS-3500E | |||||||
物鏡倍率 | 10x | 20x | 50x | 100x | 150x | ||
觀察/ 測量范圍 | 水平 (H): μm | 1400 | 700 | 280 | 140 | 93 | |
垂直 (V): μm | 1050 | 525 | 210 | 105 | 70 | ||
工作范圍: mm | 16.5 | 3.1 | 0.54 | 0.3 | 0.2 | ||
數值孔徑(N.A.) | 0.30 | 0.46 | 0.80 | 0.95 | 0.95 | ||
光學變焦 | x1 to x6 | ||||||
總放大倍率 | 178x to 26700x | ||||||
觀察/測量光學系統 | 針孔共聚焦光學系統 | ||||||
高度測量 | 測量掃描 | 長掃描 : 10 mm | |||||
顯示分辨率 | 0.001 μm | ||||||
重復率 σ | 0.010 μm | 注 1 | |||||
寬度測量 | 顯示分辨率 | 0.001 μm | |||||
重復率 3σ | 0.02 μm | 注 2 | |||||
幀記憶 | 像素 | 1024x1024, 1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96 | |||||
單色圖像 | 12 bit | ||||||
彩色圖像 | 8-bit for RGB each | ||||||
高度測量 | 16 bit | ||||||
幀速率 | 表面掃描 | 20 Hz to 160 Hz | |||||
線掃描 | ~8 kHz | ||||||
自動功能 | 自動增益 | ||||||
激光共焦測量光源 | 波長 | 405nm | |||||
輸出 | ~2mW | ||||||
激光等級 | Class 3b | ||||||
激光接收元件 | PMT (光電倍增管) | ||||||
光學觀察光源 | 燈 | 10W LED | |||||
光學觀察照相機 | 成像元件 | 1/2" 彩色圖像 CCD 傳感器 | |||||
記錄分辨率 | 640x480 | ||||||
自動調整 | 增益, 快門速度, White balance | ||||||
數據處理單元 | PC | ||||||
電源 | 電源電壓 | 100 to 240 VAC, 50/60 Hz | |||||
電流消耗 | 500 VA max. | ||||||
重量 | 顯微鏡 | Approx. ~200 kg (Measuring head unit : ~12 kg) | |||||
控制器 | ~8 kg | ||||||
注1 :以100×/ 0.95物鏡對標準樣品（步長1μm）進行100次測量
注 2 :以100×/ 0.95物鏡對標準樣品（5μm間距）進行100次測量。
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